
2025/12/19 3:55
How China built its ‘Manhattan Project’ to rival the West in AI chips
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要約▶
Japanese Translation:
改善された要約
深圳の研究所が、極紫外線(EUV)リソグラフィを使用して高度な半導体チップを製造できるプロトタイプを完成させました。EUVリソグラフィは、人間の髪の数千倍薄い回路をシリコンウェーハに刻むプロセスです。この機械は工場全床面積のほぼすべてを占める規模で、2025年初頭に完成し、現在テスト中です。元ASMLエンジニアがオランダ企業のEUV装置を逆解析して構築したもので、西側企業が長らく独占してきた技術です。プロトタイプが意図通りに機能すれば、中国はより細密な回路を持つチップを製造できるようになり、AIシステムやスマートフォン、高度兵器の性能向上につながります。この進展は、西側の独占的半導体製造能力から重要な技術が移転する可能性があり、世界のサプライチェーンと競争構造を変えることになるでしょう。
本文
シンガポール – 高度なセキュリティが施された深圳の研究室で、中国科学者たちはワシントンが長年防ごうとしたものを実現しました。人工知能、スマートフォン、そして西側軍事優位性に不可欠な兵器を動かす最先端半導体チップを生産できる機械の試作モデルです。このプロトタイプは2025年初頭に完成し、現在テスト段階にあります。工場全床面積のほぼ全部を占める大規模な装置で、元オランダ半導体大手ASMLのエンジニアチームが、同社の極紫外線リソグラフィ機(EUV)を逆解析して構築したと、プロジェクトに詳しい二名の情報筋が語っています。
EUV装置は技術的冷戦の中心です。これらは極紫外線光ビームを用いて、人間の髪の数千倍も薄い回路をシリコンウェーハ上に刻むことができ、現在では西側諸国だけがその能力を独占しています。回路が小さければ小さいほどチップはより強力になります。